不用光刻机，TRICONEX 4211 如何制造5nm芯片？

纳米压印的原理呢，和它差不多，只不过是迷你微缩版。  制造的过程统共就分两步，一步造 “ 印章 ” ，一步 “ 盖章 ” 。 

 先在刻好电路的底板上喷涂印章所需的材料，等凝固后就是纳米压印的印章。  然后再在晶片上喷涂一层纳米压印胶，直接盖章、等待凝固、脱模就 OK 了。在造印章、盖章的过程中，都不用替换工具，一个 “ 喷头 ” 就能搞定，期间只需要更换里面的材料。

而隔壁需要折来折去的 EUV 光刻技术，不仅要一个庞大的透镜阵列来控制光线，并且要产生这个波长极短的极紫外光，还得大功率支撑着。

而且如今，纳米压印技术也已经发展出了不少分支，光是压印方式就有三种：热压印、紫外压印和微接触压印，其中紫外压印常用在芯片制造中，在紫外光的照射下，压印胶很容易凝固脱模。

根据固化方式、压印面积等分类也衍生出了很多不同的工艺。

这些工艺，除了造芯片之外，还能用在 LED 、 OLED 、 AR 设备中。

型号推荐
IS200ERRBG1A    GE Fanuc    通用电气燃机卡件
IS200EROCHIA    GE Fanuc    通用电气燃机卡件
IS200TBAIH1A    GE Fanuc    控制卡件
IS200TBAIH1B    GE Fanuc    控制卡件
IS200TBCIH1BCE    GE Fanuc    通用电气模块
IS200TBCIH1BCD    GE Fanuc    通用电气燃机卡件
IS200TBCIH1BBC    GE Fanuc    通用电气燃机卡件
IS200TBCIH2B    GE Fanuc    通用电气燃机卡件
IS200TBCIH2C    GE Fanuc    通用电气模块
IS200TBTCH1BAA    GE Fanuc    通用电气模块
DS200TCCAF1BDF    GE Fanuc    模拟输入模块
DS200TCCAF1BDE    GE Fanuc    控制卡件